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HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機

HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機

簡要描述:

HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機用途

  使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機應用行業

MEMS系統

CVD薄膜;

光刻

用于光刻膠附著力的 HMDS 

作為聚合物和基材之間的粘合層

作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層;

噴墨

防止墨水積聚在噴嘴面板上,確保墨水流動不受限制;

生物MEMS

親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性,或防止蛋白質吸收,或減少器件性能的“漂移"

微陣列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白質、抗體、組織;

光學和 AR/VR 應用

修改光學特性

創建納米壓印層或鈍化層;

圖像反轉

金屬剝離工藝,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝;

HMDS烘箱  圖像反轉系統 六甲基二硅氮烷涂膠機技術性能

    材質:內箱采用316L醫用級不銹鋼

    工藝溫度:100-150℃

    溫度分辨率:0.1℃

    溫度波動度:≤±0.5

    真空度:≤133pa(1torr)

    操作界面:人機界面,一鍵作業

    層數:2層

    HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

    圖像處理:圖像反轉

    真空泵: 進口無油泵

    保護裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報&警提示,HMDS低液位報&警,超溫保護,漏電保護,過熱保護等


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